單晶鑽石研磨液,由分級後的單晶鑽石粉與分散液,按特殊的化學配方,充分混合製成。

適用於不銹鋼、LOGO表面、碳化矽基板、陶瓷基板、化合物晶體、精密光學器件、液晶面板、寶石與金屬工件等材料的研磨拋光。

  • 潤滑性好,鑽石分佈均勻,易於清洗。是最為廣泛使用的鑽石研磨液。
  • 可有效縮短加工時間,並提供良好的研磨表面。
  • LS100可提供兩種濃度的粗磨和中磨鑽石研磨液:標準(STD)、高濃度(STR)。基底液可提供油性和水性兩種。
  • 可為用戶配製各種細微性、酸鹼度、濃度、黏度的單晶鑽石研磨液。

SEM掃描成像

等圓直徑–等比體積分佈曲線(μm)
超集合中分級過的單晶鑽石粉末